Antenna Magus 阵列合成

此合成算法根据指定的方向性或波束宽度设计平面阵列。Antenna Magus 始终将阵列单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心，从而形成沿正负 z 轴的双向波束。

使用此设计算法时，单元间间距始终为 0.45 λ，当指定增益时，x 方向和 y 方向上的辐射器数量相等，当在 x 平面和 y 平面上指定不同的 3-dB 波束宽度时，x 方向和 y 方向上的辐射器数量不同。每个单元的激励是两个线性阵列激励的乘积，一个沿 x 轴排列，另一个沿 y 轴排列。如果指定的方向性小于 20 dB 或波束宽度大于 20°，则每个线性激励的旁瓣设计为比主波束方向性 [Dolph-Chebychev 激励锥度] 低 -20 dB。对于增益较高的设计，每个线性激励的前五个旁瓣都设计为比主波束方向性 [Villeneuve 激励锥度] 低 -20 dB

此合成算法根据指定的方向性或波束宽度和激励锥度设计平面阵列。激励锥度可控制旁瓣电平和分布。Antenna Magus 始终将阵列单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心，从而形成沿正负 z 轴的双向波束。

使用此设计算法时，单元间间距始终为 0.5 λ，当指定增益时，x 方向和 y 方向上的辐射器数量相等，当在 x 平面和 y 平面上指定不同的 3-dB 波束宽度时，x 方向和 y 方向上的辐射器数量不相等。每个单元的激励是两个线性阵列激励的乘积，一个沿 x 轴排列，另一个沿 y 轴排列。

用户可以将激励锥度设置为等激励 [均匀]、所有旁瓣相等 [Dolph-Chebyshev] 或前几个旁瓣相等 [Villeneuve]。然后可以设置旁瓣电平和旁瓣数量（如适用）。

此合成算法根据指定的方向性和激励锥度设计平面零点阵列。激励锥度可控制旁瓣电平和分布。Antenna Magus 始终将阵列单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心，从而形成沿正负 z 轴的双向波束。

此设计算法始终将单元间间距设置为 0.5 λ，x 方向和 y 方向上的辐射器数量相等。激励由单元在 Bayliss 曲线上位于阵列中心（原点）和最大外半径之间的相对位置决定。

用户可以将激励锥度设置为等激励 [均匀]，或准均匀指定电平的近旁瓣 [Bayliss]。然后可以设置旁瓣电平和旁瓣数量（如适用）。但是，由于设计的性质，这种指定很难控制，可能导致结果不符合指定的要求。

此合成算法根据指定的方向性或波束宽度、扫描角和激励锥度设计平面阵列。激励锥度可控制旁瓣电平和分布，而扫描角（从宽边指定）用于设计一个以特定角度倾斜的阵列。Antenna Magus 始终将阵列单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心，从而形成沿正负 z 轴的双向波束。

此设计算法可以使用单元间间距作为输入。数值可在 0 λ 和 5 λ 之间。当指定增益时，选择 x 方向和 y 方向上的辐射器数量相等，当在 x 平面和 y 平面上指定不同的 3-dB 波束宽度时，选择 x 方向和 y 方向上的辐射器数量不相等。每个单元的激励是两个线性阵列激励的乘积，一个沿 x 轴排列，另一个沿 y 轴排列。

用户可以将激励锥度设置为等激励 [均匀]、所有旁瓣相等 [Dolph-Chebyshev] 或前几个旁瓣相等 [Villeneuve]。然后可以设置旁瓣电平和旁瓣数量（如适用）。

此算法允许直接指定阵列及其激励。Antenna Magus 根本不会调整阵列布局，以实现特定的电气目标。因此，用户可以使用 Antenna Magus 中的阵列例程来评估自定义阵列布局。阵列单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心。

用户可以分别指定 x 方向和 y 方向上的单元数量、单元间间距和间距方法。对于激励锥度，用户可以选择等激励 [均匀]、均匀旁瓣电平 [Dolph-Chebychev] 和前几个旁瓣均匀 [Villeneuve]。然后，他们可以指定旁瓣电平和旁瓣数量（如适用）。每个单元的激励是两个线性阵列激励的乘积，一个沿 x 轴排列，另一个沿 y 轴排列。由于不能调整布局来实现这些目标，因此无法保证旁瓣指定。

此合成算法根据给定方位角方向的指定方向性设计圆形阵列。Antenna Magus 始终将阵列单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心。

用户可以指定方位角方向，以及方向性、给定半径或特定的的单元数量。当他们指定方位角方向和方向性时，该设计算法会根据最少的单元数量设计阵列，相邻单元间距约为四分之一波长。

当指定单元数量时，会设计尽可能小的半径；而当指定阵列半径时，会选择最少的单元数量；在这两种情况下，相邻单元间距约为四分之一波长。

此算法允许直接指定阵列及其激励。Antenna Magus 根本不会调整阵列布局，以实现特定的电气目标。因此，用户可以使用 Antenna Magus 中的阵列例程来评估自定义阵列布局。阵列单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心。

可以指定阵列中的单元数量，以及阵列的半径。

此合成算法根据指定的方向性或波束宽度设计圆形阵列（由多个单元同心环组成）。Antenna Magus 始终将阵列单元排列在 x-y 平面上（以 z 轴为中心），并将主波束辐射沿正负 z 轴方向排列。假设阵列单元为各向同性时，则该阵列的辐射方向图为围绕 z 轴的旋转图形。

此合成算法根据指定的方向性或波束宽度设计圆形阵列（由多个单元同心环组成）。Antenna Magus 始终将阵列单元排列在 x-y 平面上（以 z 轴为中心），并将主波束辐射沿正负 z 轴方向排列。当各向同性时，此合成算法根据给定方位角方向和仰角方向的指定方向性设计同心圆阵列（由一组阵列单元同心环组成）。Antenna Magus 始终将阵列单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心。假设阵列单元为各向同性，则该阵列的合成辐射方向图为围绕 x-y 平面的镜像。

用户可以指定主波束的方位角方向和仰角方向，以及所需的主波束方向性。图形显示了角度的定义。

选择均匀激励分布锥度（所有单元均匀激励）或基于泰勒分布的激励分布锥度。使用泰勒分布时，您可以选择保持旁瓣电平以及该电平下的旁瓣数量，而均匀锥度不提供旁瓣电平控制。
 

此合成算法可设计一个由多个单元同心环组成的同心圆阵列。它在给定的方位角方向和仰角方向上提供具有指定波束宽度的主波束。Antenna Magus 将此阵列的单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心。假设阵列单元为各向同性，则该阵列的合成辐射方向图为围绕 x-y 平面的镜像。

用户可以指定主波束的方位角方向和仰角方向，以及所需的主波束波束宽度。图形显示了角度的定义。当使用各向同性单元方向图合成阵列辐射方向图时，辐射方向图始终围绕 xy 平面镜像。

选择均匀激励分布锥度（所有单元均匀激励）或基于泰勒分布的激励分布锥度。使用泰勒分布时，您可以选择保持旁瓣电平以及该电平下的旁瓣数量，而均匀锥度不提供旁瓣电平控制。

此算法允许直接指定同心圆阵列。Antenna Magus 根本不会调整阵列布局，以实现特定的电气目标。此选项在评估自定义或预设计阵列布局的性能时很有用。Antenna Magus 将此阵列的单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心。是否包含中心单元是可选的。

用户可以指定同心环数量、单元环间距以及单元之间的最小方位角间距。方位角间距是最小值，该算法会调整每个环的间距，使每个环中的单元间距相等，但不小于此值。

除了物理阵列布局属性外，还可以指定阵列的激励锥度，以实现波束方向控制和旁瓣电平控制。单元相位调整和使用分布锥度的效果取决于阵列单元的物理布局和间距，这可能会导致无法实现指定的性能。图形显示了角度的定义。

此算法允许直接指定阵列及其相位激励。Antenna Magus 根本不会调整阵列布局，以实现特定的电气目标。因此，用户可以使用 Antenna Magus 中的阵列例程来评估自定义阵列布局。阵列的半径位于 x-y 平面上，而高度在 z 方向上延伸。

在物理方面，可以设置阵列沿圆周（弧）方向的单元数量、沿高度方向的单元数量、半径、角度范围以及沿高度方向的单元间距。在电气方面，可以设置径向和高度方向的增量相移。

此算法允许直接指定阵列及其激励。Antenna Magus 根本不会调整阵列布局，以实现特定的电气目标。因此，用户可以使用 Antenna Magus 中的阵列例程来评估自定义阵列布局。阵列单元排列在 x-y 平面上，以 z 轴为中心。

用户可以分别指定 x 方向和 y 方向上的单元数量、单元间间距和间距方法。对于激励锥度，他们可以选择等激励 [均匀]、均匀旁瓣电平 [Dolph-Chebychev] 和前几个旁瓣均匀 [Villeneuve]。然后，他们可以指定旁瓣电平和旁瓣数量（如适用）。在矩形阵列中，每个单元的激励是两个线性阵列激励的乘积，一个沿 x 轴排列，另一个沿 y 轴排列。从该激励分布中，可以提取三角形阵列的子集。由于不能调整布局来实现这些目标，因此无法保证旁瓣指定。